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透射光谱法方法具有测试简单、操作方便、测试范围广及精度高等诸多优点。
然而制约该方法应用的瓶颈仍然是很难根据所测的光学量来直接求解薄膜的参数和令人头疼的解的多值性问题。
本论文就透射光谱法测量薄膜的参数进行了系统地研究。
用极其简单的形式给出了经电磁理论严格推导出来的透射率公式,该公式包含了影响透射光谱的大部分薄膜和基底的参数。
一椭偏法测薄膜折射率
对于厚度在纳米级(约为10-9米)的薄膜,其折射率和厚度的精确测量。
椭偏法有着很高的精确度(比一般的干涉法高一至二个数量级)和灵敏度,它的误差范围低于纳米级。
但是因为数学上的困难,直到上个世纪五六十年代计算机出现以后椭偏法才真正发展起来。
除了测量薄膜的厚度和折射率,椭偏法广泛应用于各个领域,如测定金属的复折射率和材料的吸收系数等光学上的应用,以及在半导体,化学,生物和医学等。
(一)原理
基本原理是让一束椭圆偏振光以一定的入射角入射到薄膜系统的表面,经反射后,反射光束的偏振状态(振幅和相位)会发生变化,而这种变化与薄膜的厚度和折射率有关,因此只要能测量出偏振状态的变化量,就能测定出薄膜的厚度和折射率。
图1:
各向同性薄膜系统的光反射和折射示意图
如图1表示衬底n3上覆盖有厚度d的均匀透明各向同性的薄膜系统。
一束波长为λ的单色光,以入射角φ1入射到薄膜界面分解为反射和透射两个部分,透射部分再与另一个界面相遇,又被分解为反射和透射两个部分,这样总的反射光应该是由薄膜系统的两个界面多次反射和折射的光束0,1,2,…的叠加而成。
设φ2为薄膜中的折射角,φ3为衬底的折射角,介质薄膜和衬底的折射率分别为n1、n2和n3。
设r1,r2,为光束从空气到界面、从薄膜到界面的反射光振幅和入射光振幅的比,称为菲涅耳反射比;
由菲涅耳公式可知光束从薄膜向介质反射时的菲涅耳反射比为-r1。
设入射光为椭圆偏振光,其电矢量可分解为两个相互垂直的电矢量分量。
定义在入射面之内与光束垂直的电矢量为P分量,垂直于入射面并与光束垂直的电矢量为S分量。
这样入射光束在分界面上所发生的反射和折射现象均可借助与分析这两个特定方向的线偏振光来进行。
这时,在交界面的P、S分量的菲涅耳反射比为
r1p=n2cosφ1–n1cosφ2/n2cosφ1+n1cosφ2(1.1)
r1s=n1cosφ1–n2cosφ2/n1cosφ1+n2cosφ2(1.2)
r2p=n3cosφ2–n2cosφ3/n3cosφ2+n2cosφ3(1.3)
r2s=n2cosφ2–n3cosφ3/n2cosφ2+n3cosφ3(1.4)
由图1得,膜上反射的两相邻光束的相位差
δ=4n2cosφ2πdλ(1.5)
设(Ep)i和(Es)i分别为入射波的P分量和S分量的振幅,(Ep)r和(Es)r分别表示总的反射波中P分量和S分量的振幅。
定义该薄膜系统的总反射比为
Rp=
;
(1.6)
(1.7)
由光束干涉的理论得
(1.8)
Rs=
(1.9)
其中相位δ由(1.5)决定,在入射角确定的情况下,它依赖于薄膜d。
在椭圆偏振光的测量中,通常采用椭圆参数Ψ和Δ来描述反射光的偏振状态的变化。
故得到:
=tanΨexp(iΔ)=
=f(n1,n2,n3,φ,d,λ)(1.10)
此式称为椭圆偏振方程。
它表示了反射光偏振状态的变化(Ψ,Δ)与薄膜d、入射光波长λ、入射角φ及折射率n1,n2,n3之间的关系。
所用仪器是让波长单一的单色光经起偏器后变为线偏振光,使之通过1/4λ的波片同时让快轴与线偏振光的偏振方向呈45度,以获得椭圆偏振光,在镀膜的样品上发生反射后再经检偏器观察投射到探测器上的光强。
这样在不断调整起偏器和检偏器的方向可得消光,至此利用一系列的公式可得厚度和折射率。
(仪器如图2)
图2:
仪器简易示意图
(二)实验步骤:
1、调整光路,并使入射到样品的光为等幅椭圆偏振光
(1)安装半导体激光器并调整分光计,使半导体激光器光束、平行光管的中心轴、望远镜筒的中心的轴同轴。
(2)标定检偏器透光轴的零刻度,并使检偏器的透光轴零刻度垂直于分光计主轴。
(3)将检偏器(检偏器的透光为0o方向)套在望远镜筒上,90o读数朝上,将黑色反光镜置于载物台中央,使激光束按布儒斯特角(约57o)入射到反光镜表面。
(4)将1/4波片框的打孔点向上,套在内刻度圈上,此时内刻度圈的示数应对应0o。
然后微微转动1/4波片,使白屏的光达到最黑暗后固定1/4波片。
(5)置1/4波片快轴于内刻度圈的示数+45o或-45o,此时无论起偏器转动在任何位置,出射的光均为等幅椭圆偏振光。
2、测量样品的折射率和厚度
(1)选择测试样品的最佳入射角
由多次实验结果和理论证明,当入射角为70o左右时,实验结果最准确。
方法是将样品放在载物台中央,旋转载物台使达到预定的入射角70o,并使反射光在观察窗口白屏上形成以亮点。
(2)测量和记录数据
先置1/4波片快轴于+45o,仔细调节检偏器方位角θ和起偏器方位角φ,使光电探头的电流最小,记下θ值φ值。
这样可以得到两组消光位置数据,再置1/4波片快轴于-45o,仔细调节检偏器和起偏器,使光电探头的电流最小,可得另两组数据,代入公式。
计算出(ΨΔ)
3、计算样品的折射率和厚度的数据处理方法
利用上述推导的公式f1(n1d1)=Re(tanΨexp(iΔ))和f2(n1d1)=Im(tanΨexp(iΔ))由这2个式子组成的方程组,我们只要找出(ΨΔ)既可算出对应的折射率和厚度。
表1:
椭偏法实验数据
A
24.420
38.218
33.111
17.521
76.160
86.011
P
88.920
175.075
94.563
9.911
91.703
19.467
数表给出值
n
1.44
1.43
1.45
1.46
1.47
d/nm
55.72
191.05
81.82
248.60
132.20
144.88
实验计算值
1.4550
1.4600
1.4700
1.4500
55.704
190.995
81.754
248.545
132.231
144.830
椭圆偏振法这种测量方法,它的测量精度很高。
在各种已有的测薄膜折射率和厚度方法中,它是能测薄膜最薄和测量精度最高的一种。
但由于长期存在着数学处理上的困难与局限性,只有依靠电子计算机的发展和应用才使椭圆偏振法获得了生命力。
二透射光谱法测薄膜折射率
对于透明导电薄膜上述方法有所局限可以利用分光光度记测量了其透射光谱,采用Sellmeir色散关系拟合透明导电薄膜的折射率和厚度。
(下面我们以ZnO薄膜为例)
(一)实验
本文中采用的样品是利用射频磁控溅射方法制备的ZnO薄膜,ZnO作为溅射靶,溅射靶直径为60mm,纯度优于99.99%,衬底为玻璃片,Ar和O2气体的纯度均为99.999%,本底真空度为6.5×
10-4Pa,工作气压为0.5Pa,Ar和O2流量分别为10sccm和20sccm,基片温度为200℃。
.射频输入功率为52W,在薄膜制备过程中,样品台以4.8转/s的速度自转以保证薄膜的均匀性。
样品分别掺杂2%、3%的fe、mg、al、cu杂质,分析折射率的变化[1][2][3]。
U-4100紫外-近红外分光光度计测量薄膜的透射光谱,测量波长范围为240nm-800nm,XP-1台阶仪上测量薄膜厚度。
(二)结果和讨论
2.1光学性质分析
图3是分光光度计所测的ZnO薄膜一基片系统的通过率曲线。
ZnO薄膜在可见和近红外区透射率可达:
80%-90%,在400nm左右透射率急速下降。
对透明膜来说,分光光度计能精确测量透过率,但难以精确测量绝对反射率。
因此只能利用薄膜的透过率来研究光学参数,对于各向同性的透明薄膜,薄膜厚度为d,折射率为n,消光系数k≈0,对薄膜两边的半无限的非吸收的介质,折射率分别为n0,n1,则在极小值处:
图3:
纯ZnO的透射率曲线
Tmin=
[5](2.1)
此处的薄膜折射率为:
n={n0n1[
-1+
]}1/2(2.2)
将图中数据代入上述公式计算得下表:
表2:
纯ZnO折射率
波长
透射率
折射率
T1
646.3636
80.04
1.591408
T2
741.1598
84.07
1.372312
下面我们看看不同掺杂的透射率曲线
图4:
2%的掺杂的透射率曲线
由图4我们可以看出2%Cu的掺杂对ZnO薄膜的透射率的影响较小,al、fe、mg对于ZnO薄膜的透射率的影响都较大。
但fe和al的影响相似。
并得下列数据
表3:
2%掺杂折射率
波长nm
透射率%
Cu
701.582
84.94
1.329059
Fe1
631.268
85.61
1.296644
Fe2
505.432
83.38
1.407583
Al1
Al2
503.053
84.64
1.343823
Mg1
493.066
88.70
1.156532
Mg2
399.724
74.00
1.989226
图5:
3%的掺杂的透射率曲线
由图5我们同样可以看出与图4一样的规律来3%Cu的掺杂对ZnO薄膜的透射率的影响较小,al、fe、mg对于ZnO薄膜的透射率的影响都较大。
且fe和al的影响相似。
表4:
3%掺杂折射率
651.379
72.18
2.129105
490
83.12
1.421102
612.257
85.31
1.311064
476.458
86.62
1.249194
594.200
87.06
1.229037
Mg
479.244
86.34
1.262182
薄膜厚度:
d=M(λ2λ1)/2(n(λ1)λ2-n(λ2)λ1)(2.3)
(其中λ2>λ1,M为两个极值点之间的干涉级次之差)在此我们不做过多的讨论
由于以上数据都是已经消除了衬底对薄膜透射率的影响。
加衬底(玻璃片)于实验仪器上与实验材料一起测出数据,电脑此时已自动将衬底对薄膜的影响消除了。
有时必须消除衬底对透过率的影响。
消除基片影响后的薄膜透射率为:
T=T1=T2
=(1-R2)
=[1-(
)2]
=[
]
[5](2.4)
其中,TF为薄膜一基片系统的透过率,T1分别为镀膜表面的透射率;
T2,R2分别为基片一空气表面的透射率和反射率,TO为清洁片的透过率。
这样,不仅校正了基片的背面和吸收的影响,而且由于采用了比较法测量,减少了分光光度计的测量误差。
这样透过率曲线扣除玻璃衬底的影响,在弱吸收区或透明区中,取n0=1,玻璃ns=1.52,找出透过率的极小点Tmin,再根据公式(2.2)可计算出极小点薄膜的折射率。
2.2对实验薄膜光学带隙的分析
几种ZnO薄膜样品的折射率基本相同,在可见和近红外区折射率近似的常数为1.5左右。
根据公式(2.3)算出样品平均厚度误差均小于1%。
薄膜在可见和近红外是弱吸收区,紫外吸收主要是本征吸收,吸收波长对应着ZnO薄膜的光学带隙。
在不考虑薄膜的表面反射的情况下,薄膜的吸收系数近似可写为:
a=-
lnT(d为膜厚)(2.6)
根据ZnO薄膜的透射率曲线可求得薄膜的吸收系数,又根据薄膜的吸收系数和消光系数k的关系;
a=4πk/λ可以求得薄膜的消光系数k。
在薄膜的高吸收区,薄膜的吸收系数与声子能量满足Tauch公式:
[9]
a=
(2.7)
其中,B为常数,E1为光学带隙。
P是反映电子跃迁过程的因子,对直接允许跃迁的、直接禁戒跃迁、间接允许跃迁和间接禁戒跃迁,其P分别为1/2,3/2,2,3。
ZnO薄膜是典型的直接允许跃迁的材料,因此其P=1/2。
图6给出了我们对样品吸收谱作的关于(ahv)2与声子能量的关系拟合结果。
将(2.7)式化解得(ahv)2=Bhv–BE1由此可以得出当纵坐标(ahv)2等于0时E1=hv即是图线作的最多点通过的直线与横坐标的交点[6]。
图6:
掺杂量为2%薄膜的(ahv)2-hv关系
如上图得表5:
表5:
2%各掺杂薄膜的光学带隙
2%al
2%cu
2%fe
2%mg
纯ZnO
通氧ZnO
光学带隙/eV
3.29757
3.01916
3.28758
3.39896
3.24127
3.26266
图7:
掺杂量为3%薄膜的(ahv)2-hv关系
如上图得表6:
表6:
3%各掺杂的光学带隙
3%al
3%cu
3%fe
3%mg
3.27701
2.98960
3.28928
3.31769
3.24294
3.25971
由表5表6数据中的数据得随着al掺杂的增加,实验薄膜材料的光学带隙变窄;
随着cu掺杂的增加,实验薄膜材料的光学带隙变窄;
fe的掺杂对实验薄膜材料的光学带隙影响不大;
mg掺杂的增加,实验薄膜材料的光学带隙变窄;
由此我们可以得出随着材料的掺杂量的增加薄膜的光学带隙变窄。
结束语:
在科学发展日新月异的今天,大量具有各种不同功能的薄膜得到了广泛的应用,薄膜作为一种重要的材料在材料领域占据着越来越重要的地位.本文通过两种方法对薄膜折射率的测量进行了介绍,第一种方法是椭偏法,利用椭圆偏振光和线偏振光的变化以及偏振光的反射、折射,由菲涅尔公式推导,进而测得薄膜的折射率;
第二种是透射光谱法,利用分光光度计测量了其透射光谱,通过计算拟合透明导电薄膜的折射率,并通过实验证实了方法的可行性。
然后利用实验测得的不同搀杂的玻璃衬底的透明薄膜的多组透射数据,通过origin软件绘制成透射图,并进行观察和比较,选取透射效果最好的透射图并选取其中的透射率的极小值点作为计算参数,代入公式结合空气和玻璃的折射率,计算出实验透明薄膜的折射率;
然后将计算所得到的结果与实际样品的透射率进行比较,得出不同金属掺杂对薄膜折射率和光学带隙的影响。
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