全球用溅射靶材市场规模及我国用靶材市场需求分析.docx
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全球用溅射靶材市场规模及我国用靶材市场需求分析
全球用溅射靶材市场规模及我国用靶材市场需求分析
提示:
化学纯度是影响薄膜材料性能的关键因素,高纯金属原材料是靶材生产制造的基矗高纯金属提纯分为化学提纯和物理提
化学纯度是影响薄膜材料性能的关键因素,高纯金属原材料是靶材生产制造的基础。
高纯金属提纯分为化学提纯和物理提纯,在实际应用中,通常使用多种物理、化学手段联合提纯实现高纯材料的制备。
我国虽然拥有丰富的有色金属矿产资源,但我国高纯金属制备技术与国外相比仍存在一定差距,高纯金属有较大比重需从国外进口。
全球范围内,高纯金属产业集中度较高,美、日等国家的高纯金属生产商依托先进的提纯技术在整个产业链中居于十分有利的地位,具有较强的议价能力。
高纯溅射靶材是伴随着半导体工业的发展而兴起的,集成电路产业是目前高纯溅射靶材的主要应用领域之一。
受困于2008年爆发的金融危机,全球半导体市场2009年陷入全面衰退。
此后,全球半导体市场迅速反弹。
自2011年起,全球半导体市场进入平稳增长期。
半导体材料的市场规模也随着整个半导体行业市场规模的增长而增长。
高纯铝是我国靶材上游材料的突破口
国内高纯金属产业在靶材上游率先取得突破。
2004年以前,我国99%以上的高纯铝只能从美国和日本进口。
近年来随着技术的发展,我国也出现了一些高纯铝生产企业,有新疆众和、包头铝业、霍煤鸿骏、山西关铝、宜都东阳光铝、中铝贵州、神火铝业等,与美、日企业的差距正在缩小。
2016年我国国内高纯铝产量达11.8万吨,生产的高纯铝甚至部分返销国外。
图:
高纯金属铝进口为主
图:
高纯金属铝产量高速增长
半导体靶材:
是国内技术最为领先的半导体材料
在市场需求和政策鼓励下,国内半导体市场保持着平稳较快发展,国内半导体材料产业、靶材产业规模也日益扩大,其增速高于全球增速,在全球市场中所占份额逐渐提升。
得益于中国大陆晶圆厂建设的迅猛势头,中国已经成为全球最具潜力的半导体材料新兴市场。
2016年国内半导体用溅射靶材市场规模突破14亿元,全球半导体用溅射靶材市场规模突破12亿美元。
我们预测,未来5年,国内高纯溅射靶材市场规模年复合增长率可达到13%,总规模超过25亿元。
参考
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