proe特征的阵列复制和基本操作.ppt
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掌握特征阵列的基本方法与技巧。
掌握特征复制的基本方法与技巧。
明确特征的各种常用操作及其应用。
第5章特征的阵列、复制和基本操作,5.1特征阵列5.1.15.1.25.1.35.1.45.2特征复制5.2.15.2.25.2.35.3特征的常用操作5.3.15.3.25.3.35.3.45.3.55.3.65.3.75.3.8,本章大纲,阵列的特点。
(1)特征阵列使用特征复制的方法来创建新特征,操作简便。
(2)特征阵列受阵列参数控制,通过改变阵列参数(如实例总数、实例之间的间距以及原始特征的尺寸等)可方便地修改阵列结果。
(3)特征阵列间包含了严格的约束关系,修改原始特征后,系统自动更新整个阵列。
(4)阵列特征及其实例通常被作为一个整体进行操作,对包含在一个阵列中的多个特征同时执行操作,比单独操作特征更为方便和高效。
5.1特征阵列,5.1.1特征阵列综述,设计图标板,图5-1,阵列方法分类尺寸阵列:
使用驱动尺寸并指定阵列尺寸增量来创建特征阵列。
方向阵列:
通过指定方向参照来创建线性阵列。
轴阵列:
通过指定轴参照来创建旋转阵列或螺旋阵列。
表阵列:
编辑阵列表,在阵列表中为每一阵列实例指定尺寸值来创建阵列。
参照阵列:
参照一个已有的阵列来阵列选定的特征。
填充阵列:
用实例特征使用特定格式来填充选定区域来创建阵列。
曲线阵列:
按照选定的曲线排列阵列特征。
基本概念为了方便叙述并帮助读者理解各种阵列设计方法,先简要介绍几个相关的术语。
原始特征:
选定用于阵列的特征,是阵列时的父本特征。
实例特征:
根据原始特征创建的一组副本特征。
一维阵列:
仅仅在一个方向上创建阵列实例的阵列方式。
多维阵列:
在多个方向上同时创建阵列实例的阵列方式。
线性阵列:
使用线性尺寸创建阵列,阵列后的特征成直线排列。
旋转阵列:
使用角度尺寸创建阵列,阵列后的特征以指定中心成环状排列。
图5-2,图5-3,图5-4,图5-5,5.1.2创建尺寸阵列,尺寸阵列的形式,2确定驱动尺寸,【要点提示】由表可看出,【相同】阵列要求严格,一旦出现了不允许的设计操作,特征阵列会以失败告终,但是这种方法创建的阵列简单而且特征再生迅速。
【一般】阵列的设计约束少,应用广泛,但是实例特征再生时间长。
【可变】阵列综合了二者的长处,是折中的阵列方法。
图5-6,图5-7,确定尺寸增量尺寸增量主要有以下两种用途。
(1)如果选取原始特征上的定位尺寸作为驱动尺寸,可以通过尺寸增量指明在该尺寸方向上各实例特征之间的间距。
(2)如果选取原始特征上的定形尺寸作为驱动尺寸,可以通过尺寸增量指明在阵列方向上各实例特征上对应尺寸依次增加(或减小)量的大小。
确定阵列特征总数最后确定在每一个阵列方向上需要创建的特征总数。
这里需要注意的是,阵列特征总数包含原始特征在内。
图5-8,【例5-1】创建尺寸阵列。
打开素材文件。
打开阵列设计工具。
设置尺寸。
设置参数。
在参数面板中设置阵列尺寸增量为。
按住Ctrl键,继续设置第二个驱动尺寸并设置尺寸增量。
分别在图标板上设置第一方向和第二方向上的特征总数。
单击鼠标中键。
图5-8,图5-9,图5-12,图5-14,在模型对话框中,单击展开阵列特征标记,其中第一个为原始特征,其余为实例特征。
删除阵列实例特征。
5使用关系式创建阵列在编辑阵列关系中可以使用下列系统认可的参数。
LEAD_V:
导引值(也就是驱动尺寸)的参数符号。
MEMB_V:
确定每一个实例特征尺寸或位置时使用的参数符号。
MEMB_I:
该参数是相对于前一实例来定位每一个实例特征。
IDX1:
第1方向的阵列实例索引值,这些值每计算完一个阵列实例后自动递增1。
IDX2:
第2方向的阵列实例索引值。
【要点提示】MEMB_V和MEMB_I是互相排斥的,二者不能同时出现在同一阵列关系式中。
5.1.3创建其他阵列,1创建方向阵列可以作为方向参照的元素有以下几种。
实体上的平直边线平面或平整曲面坐标系基准轴,图5-17,【例5-2】创建方向阵列。
打开素材文件。
打开阵列设计工具并创建方向阵列。
输入特征总数和驱动尺寸。
调整第一、第二驱动尺寸。
图5-18,图5-20,图5-21,2创建轴阵列轴阵列主要用于创建旋转阵列。
设计中首先选取一个旋转轴线作为参照,然后围绕该旋转轴线创建特征阵列,既可以创建一维旋转阵列,也可以创建二维旋转阵列。
图5-22,【例5-3】创建螺旋阵列。
打开素材文件。
创建轴阵列。
选取阵列参照。
设置驱动尺寸及参数。
设置特征总数以及特征间的角度增量。
图5-25,图5-24,3创建参照阵列在创建一个特征阵列之后,如果在原始特征之上继续添加新特征并希望在各实例特征上也添加相同的特征,可以使用参照阵列的方法。
图5-26,【例5-4】创建参照阵列。
打开素材文件。
展开阵列特征,找出原始特征。
在原始特征上创建倒圆角。
打开阵列工具。
在其余实例特征上创建与原始特征参数相同的倒圆角。
单击鼠标中键。
图5-31,图5-28,图5-29,4创建表阵列表阵列是一种相对比较自由的阵列方式,常用于创建不太规则布置的特征阵列。
【例5-5】创建表阵列。
打开素材文件。
创建表阵列。
设置孔尺寸。
创建4个实例特征。
保存修改后的阵列表。
单击图标板上的按钮。
图5-33,图5-34,5创建填充阵列填充阵列是一种操作更加简便、实现方式更加多样化的特征阵列方法。
【例5-6】创建填充阵列。
打开素材文件。
创建填充阵列。
进入草绘模式。
绘制填充区域后退出草绘模式。
选取实例特征的排列阵型。
输入实例特征之间的距离。
输入实例特征到草绘边界的距离。
输入实例阵列关于中心原点转过的角度。
单击取消实例特征。
单击鼠标中键。
图5-36,图5-37,图5-39,创建曲线阵列曲线阵列是一种更加灵活的阵列方法,可以沿着曲线布置实例特征。
【例5-7】创建曲线阵列。
打开素材文件。
创建曲线阵列。
进入草绘模式。
选中整个模型边线链。
输入偏距数值。
选择参照点并将其设为起始点。
设置实例特征之间的间距。
单击鼠标中键。
图5-46,图5-44,图5-42,【要点提示】通常将曲线上的起始点设置在距离原始特征最近的位置处,否则最后创建的阵列设计结果与参照曲线间的偏距太大。
5.1.4应用实例使用关系创建阵列特征,创建基础实体特征。
(1)新建零件文件。
(2)使用拉伸法创建基础实体特征。
创建原始特征。
创建特征阵列。
(1)打开设计图标板,此时模型上将显示原始特征的3个尺寸参数。
(2)打开尺寸参数面板,选取水平方向的定位尺寸作为驱动尺寸,暂时接受系统给出的尺寸增量参数,此时系统显示该尺寸的代号为“d7”。
(3)选中下方的【按关系定义增量】复选框,打开【关系】对话框。
(4)在【关系】对话框输入图5-51所示关系,完成后关闭对话框。
图5-51,图5-49,图5-47,(5)选取第2个驱动尺寸。
(6)仿照上述方法打开【关系】对话框,为该驱动尺寸的尺寸增量增加关系式完成后关闭对话框。
(7)选取第3个驱动尺寸。
(8)打开【关系】对话框编辑关系式,完成后关闭对话框。
(9)设置特征总数。
(过程中需注意理解关系式“memb_i=(d2(2*d7)/9”和关系式“memb_v=lead_v+100*sin(360/9)*idx1)”的含义。
),图5-58,图5-54,图5-53,重新编辑关系式。
(1)显示阵列特征总数。
(2)查看完符号表示。
(3)选取【编辑定义】选项,重新打开设计图标板。
(4)打开尺寸参数面板,重新编辑关系式后关闭对话框。
(5)继续编辑第2个关系式,完成后关闭对话框。
(6)继续第3个关系式,完成后关闭对话框。
5修改阵列参数。
(1)修改特征总数为“15”。
(2)修改特征总数为“8”。
图5-64,图5-65,图5-62,图5-59,【例5-8】指定参照复制对象。
打开素材文件。
使用【新参照】复制特征。
使用【相同参考】复制对象。
5.2特征复制,5.2.1指定参照复制,特征复制主要有指定参照复制、镜像复制和移动复制3种基本方法。
图5-72,图5-71,图5-69,图5-68,图5-67,图5-66,5.2.2镜像复制,【例5-9】创建镜像复制。
打开素材文件。
选择镜像复制。
选取镜像参照。
修改孔尺寸。
再生模型。
镜像复制。
图5-78,图5-77,图5-76,图5-75,图5-73,图5-74,5.2.3移动复制,【例5-10】创建旋转楼梯。
新建文件。
创建第1个拉伸实体特征。
创建2个拉伸实体特征。
复制拉伸实体特征。
创建阵列特征。
图5-99,图5-95,图5-89,图5-85,图5-82,图5-84,图5-81,图5-79,5.3特征的常用操作,5.3.1特征之间的主从关系,主从关系对设计的影响特征的主从关系是Pro/E强大的参数化建模功能的重要体现,因此,特征主从关系是参数化设计的理论基础。
另一方面,特征之间复杂的主从关系也会使模型的结构更加复杂,这种错综复杂的关系之间的相互制约和牵制可能会导致特征再生失败。
主从关系产生的条件以下几种情况下将在特征之间引入主从关系。
(1)为基础特征选取设计参照时。
(2)为工程特征选取放置参照时。
(3)特征阵列操作时。
(4)特征复制操作时。
5.3.2删除特征,删除特征的方法
(1)在模型树窗口的特征标识上单击鼠标右键,然后在弹出的菜单中选取【删除】选项。
(2)选中准备删除的特征后,按键盘上的Delete键。
删除操作时应注意的问题
(1)删除操作的基本单位是特征,包括使用各种方法创建的基础实体特征、工程特征以及基准特征等。
(2)对于具有主从关系的特征,在删除主特征时,必须给其从属特征选取一种适当的处理方法。
(3)一般来说特征删除后不能简单恢复。
若要恢复,可使用系统提供的轨迹文件(trail.txt文件)。
3删除操作在特征删除操作中,如果选取了具有从属特征的特征作为删除对象,系统会首先弹出【删除】对话框询问是否确定要执行删除操作。
5.3.3编辑特征,如果对设计完成后创建的模型不满意,可以使用系统提供的特征修改工具对模型中的特征进行修改。
实际上,在使用Pro/E进行建模的过程中,设计者需要熟练使用设计修改工具反复修改设计内容,直至满意为止,这也是Pro/E设计的重要特点之一。
图5-106,图5-105,图5-104,5.3.4编辑定义特征,在进行特征编辑定义之前,首先在模型树窗口中选取需要编辑定义的特征,然后在其上单击鼠标右键,在弹出的菜单中选取【编辑定义】选项,系统将打开创建该特征的设计图标板,重新设定需要修改的参数即可。
图5-107,【例5-11】重定义特征草绘截面。
打开素材文件。
在模型上选中上部的孔并选取【编辑定义】选项。
系统打开设计图标板。
进入二维草绘模式。
删除原来的圆形剖面,重新绘制方形剖面。
再生模型。
图5-111,图5-110,图5-108,5.3.5插入特征,【例5-12】插入特征。
打开模型。
进入插入模式。
创建倒圆角特征。
退出插入模式。
通过该实例可以看出,通过插入方法创建的倒圆角特征的效果和按照自然顺序创建的倒圆角特征完全相同,这也说明特征插入方法不失为一种在已经创建的模型上补充特征的有效方法,这也进一步提高了软件的设计灵活性。
图5-117,图5-115,图5-114,图5-113,图5-112,5.3.6编辑特征参照,【例5-13】编辑特征参照。
打开文件。
删除特征。
编辑参照。
【要点提示】这里仅仅重定义了草绘平面,这是因为在创建拉伸特征3时,在拉伸特征2上选取了草绘平面,如果还在其上选取了其他参照(如标注和约束参照等),可以使用类似的方法继续重定义这些参照。
图5-121,图5-120,图5-119,图5-118,图5-123,5.3.7重排特征顺序,重排特征顺序时,不能违背特征之间的主从关系,也就是说,不能把从属特征调整到主特征的前面。
通常的情况是调整顺序的几个特征之间相互独立,没有主从关系。
在重排特征顺序时,应该首先了解模型的特征构成,做到心中有数。
对于比较复杂的模型,可以使用以下两种方法查看模型的特征构成。
【例5-14】重排特征顺序。
打开文件。
查看重排序前的模型构成。
拖动壳特征标识。
系统自动再生模型,图5-127,图5-126,图5-125,图5-124,5.3.8控制模型的可见性,控制特征可见性的方法可以使用以下两种方法来控制模型的可见性。
隐藏:
隐藏选定的对象,使其不可见,但是该对象依然存在模型中,系统再生模型仍然会再生该对象。
隐含:
将选定的对象暂时排除在模型之外,系统再生模型时不会再生该对象。
隐藏对象
(1)隐藏对象的方法。
(2)取消隐藏的方法。
隐含对象,图5-131,图5-130,隐含操作要暂时将该对象排除在模型之外,因此该对象不但不可见,而且其相关信息也不会显示在模型树窗口中。
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